４．大型装置室

レーザアブレーション(PLD)装置室です。酸化物薄膜や超格子、ナノ粒子を作る時に使います。

(写真左下)Nd:YAGレーザー(4倍波266 nm)をチャンバー内のターゲットに照射。
(写真右下)アブレーションが起こり、ターゲット(右下)からのプルームが熱された基板(上)へ向かっている様子。

■RHEEDによる薄膜の成長過程の観察

・卓上型真空蒸着装置 （VPC-060, アルバック機工）	・高温電気炉 （フルテック製FT1700):
容器内を真空にして金属などに熱を加えて蒸発させ、気体を飛ばして基板などをコーティングします。 金属薄膜作製や、電極作製に用いています。	セラミックスなどの焼結、固相反応に。大気中1650℃まで。

・フーリエ変換赤外分光光度計	・ボールミル装置
KBr錠剤透過法だけでなく、ZnSeプリズムによるATR法ジグも常設　 (FTIR8400S) 7800cm-1〜350cm-1	Fritsch(独)製の遊星ボールミル装置です。試料とアルミナボールをポットに一緒に入れて自転と公転を与え、非常に大きな圧縮剪断力を与えることで粉砕を行う装置です。アルミナボールの大きさで粉砕後の試料の大きさが決まります。 ATR法ジグも常設